超純水制備工藝

　　1、預處理→UF系(xi)統→一級(ji)(ji)反滲透(tou)→PH調節→級(ji)(ji)間水(shui)箱→二級(ji)(ji)反滲透(tou)→中間水(shui)箱→中間水(shui)泵(beng)→紫外線殺(sha)菌器(qi)→微(wei)孔過濾(lv)器(qi)→EDI裝置→氮封水(shui)箱→增壓(ya)(ya)水(shui)泵(beng)→拋光混床→循環增壓(ya)(ya)泵(beng)→用水(shui)對(dui)象(≥18MΩ.CM)

　　2、預(yu)處(chu)理(li)→UF系統→一級反滲透→PH調節→級間水箱→二級反滲透→中(zhong)間水箱→中(zhong)間水泵→紫外線殺菌(jun)器→微(wei)孔(kong)過濾器→EDI裝置→氮封水箱→供水泵→用水對象(≥17MΩ.CM)

　　涉及行業及領域

　　☆電(dian)解電(dian)容(rong)器生產鋁箔及工作件的清洗

　　☆電(dian)子管生產、電(dian)子管陰(yin)極涂敷碳酸鹽(yan)配液

　　☆顯像管和陰極射線管生產、配料用(yong)純水

　　☆黑白(bai)顯(xian)像(xiang)管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕(shi)潤、洗膜(mo)、管頸清洗用純(chun)水(shui)

　　☆液(ye)晶顯示(shi)器的生產、屏(ping)面需用(yong)純水清(qing)洗和(he)用(yong)純水配(pei)液(ye)

　　☆晶體(ti)管生產中主要用于清洗(xi)硅(gui)片，另有(you)少量用于藥(yao)液配(pei)制

　　☆集成電路生產中高純水(shui)清洗(xi)硅(gui)片

　　☆半導體材料、器件、印刷電路(lu)板(ban)和(he)集成(cheng)電路(lu)

　　☆LCD液(ye)晶顯(xian)示(shi)屏(ping)、PDP等離(li)子顯(xian)示(shi)屏(ping)

　　☆高品質顯像管(guan)、螢光粉生產

　　☆晶元材料生產、加(jia)工、清洗

　　☆超(chao)(chao)純(chun)材(cai)料(liao)和超(chao)(chao)純(chun)化學(xue)試劑(ji)、超(chao)(chao)純(chun)化工材(cai)料(liao)

　　☆實驗(yan)室和中(zhong)試車間

　　☆汽車、家電、建材產(chan)品表面(mian)涂(tu)裝等其它要求的表面(mian)處理(li)用純水(shui)

　　☆光(guang)電產品(pin)、其他高科技精微產品(pin)

　　☆電鍍(du)(du)(du)(鍍(du)(du)(du)金(jin)、鍍(du)(du)(du)銀、塑料電鍍(du)(du)(du)、鍍(du)(du)(du)鉻(ge)、鍍(du)(du)(du)鋅等)用水

　　☆玻(bo)璃(li)鍍膜(mo)用高純水

　　☆超聲波清洗用(yong)純水，電泳用(yong)純水

　　超純水水質標準

　　我公司超純水設備出水水質完全(quan)符合美國ASTM D5127-2007、我國電(dian)子級水GB/T 11446.1-1997標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、0.5MΩ.cm)。