工業高純水設備可以將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率約10～18.3MΩ.cm極限值。超純水,是一般純水設備很難達到的程度，通常采用預處理、反滲透技術、高純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換(拋光)、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ.cm。

　　工業高純(chun)水設備用途:超純(chun)水水質分為五個(ge)行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qu)分不同(tong)水質。

　　工業高純(chun)水設(she)備的(de)應用領域

　　比較近幾年電(dian)去離(li)子(zi)在(zai)各個(ge)工(gong)業(ye)領域都越來越受重視(shi)，許多工(gong)業(ye)系(xi)統(tong)開始采用電(dian)去離(li)子(zi)作為其水處理系(xi)統(tong)的更新(xin)換(huan)代(dai)技術(shu)，如電(dian)力工(gong)業(ye)、制藥工(gong)業(ye)、微(wei)電(dian)子(zi)工(gong)業(ye)、電(dian)鍍與(yu)金屬(shu)表面(mian)處理等(deng)。

　　(1)電力工(gong)業

　　據推算電力(li)(li)行(xing)業(ye)水處理單(dan)元(yuan)的(de)操(cao)作費用(yong)(yong)約占電力(li)(li)成本(ben)的(de)10%，而用(yong)(yong)電去離(li)子替(ti)代離(li)子交(jiao)換樹脂可以使每(mei)處理1000加侖(lun)水的(de)成本(ben)由11美元(yuan)降至1.75美元(yuan)。

　　(2)制藥工業(ye)

　　雖然藥用水的(de)特點是并不要求很高的(de)去(qu)離(li)子程(cheng)度，但電去(qu)離(li)子系(xi)統具有(you)同時去(qu)鹽和控(kong)(kong)制(zhi)微生物(wu)指標(biao)的(de)特點，因此(ci)已有(you)多家(jia)企業采(cai)用RO/EDI集(ji)成系(xi)統。據稱該類系(xi)統性能穩定，全流(liu)程(cheng)計算(suan)機連續監控(kong)(kong)，全自(zi)動操作無人(ren)值守。

　　(3)電子工業

　　電(dian)(dian)(dian)子工業對(dui)水(shui)(shui)質(zhi)的要求極高(gao)，水(shui)(shui)電(dian)(dian)(dian)阻率要穩(wen)定的大于18MΩ,而EDI出水(shui)(shui)一(yi)般(ban)在(zai)15-17MΩ左右，因(yin)此在(zai)電(dian)(dian)(dian)子級水(shui)(shui)的生(sheng)產(chan)過程多采用(yong)EDI+拋光樹(shu)脂系統，即在(zai)EDI之(zhi)后加離子交換(huan)，此工程雖然仍需(xu)離子交換(huan)，但由于EDI已除去了大部分(fen)離子，拋光樹(shu)脂幾(ji)乎不用(yong)再生(sheng)，因(yin)此水(shui)(shui)處理費用(yong)仍然很低(di)。

　　(4)電鍍與金屬表面處理

　　電去離(li)子可(ke)用于電鍍廢水處(chu)理(li)可(ke)以使(shi)(shi)水重(zhong)復使(shi)(shi)用并回收(shou)重(zhong)金屬離(li)子。

　　(5)其(qi)他領域

　　電去離子在食品工(gong)(gong)業、化(hua)(hua)(hua)學工(gong)(gong)業等都有(you)(you)很(hen)廣泛的(de)應用：多(duo)(duo)室(shi)流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)、設(she)(she)備的(de)橫截面(mian)一般(ban)為矩(ju)形(xing)，用垂直(zhi)擋(dang)(dang)板將設(she)(she)備沿長度方向分成多(duo)(duo)室(shi)(一般(ban)4～8室(shi))。擋(dang)(dang)板下沿與(yu)分布板面(mian)之間留有(you)(you)幾十(shi)毫米(mi)的(de)間隙，作為室(shi)間粉粒通道。比(bi)較后一室(shi)有(you)(you)控制(zhi)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)面(mian)的(de)堰板。流(liu)(liu)體平行進入(ru)各(ge)(ge)室(shi)，顆粒則依(yi)次通過(guo)各(ge)(ge)室(shi)，因(yin)此多(duo)(duo)室(shi)流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)不僅能抑制(zhi)顆粒在整個床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)層(ceng)內的(de)返混，而且還能調節(jie)通入(ru)各(ge)(ge)室(shi)流(liu)(liu)體的(de)流(liu)(liu)速和溫(wen)度。多(duo)(duo)室(shi)流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)比(bi)多(duo)(duo)層(ceng)流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)設(she)(she)備容易控制(zhi)，總壓降(jiang)也小;但傳熱、傳質推動(dong)力較多(duo)(duo)層(ceng)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)小，用于干燥(zao)時(shi)空(kong)氣(qi)熱量(liang)利(li)用效率較差。 兩(liang)器流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang) 有(you)(you)兩(liang)個流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)床(chuang)(chuang)(chuang)(chuang)，在左側流(liu)(liu)化(hua)(hua)(hua)。

　　工(gong)業(ye)高純水(shui)設備(bei)工(gong)藝流程

　　1、采用離(li)子交(jiao)換方式，其流程如(ru)下：

　　原水(shui)→原水(shui)加壓泵→多介質(zhi)過(guo)濾器(qi)(qi)(qi)→活性(xing)炭過(guo)濾器(qi)(qi)(qi)→軟水(shui)器(qi)(qi)(qi)→精密過(guo)濾器(qi)(qi)(qi)→陽樹(shu)脂(zhi)(zhi)過(guo)濾床→陰樹(shu)脂(zhi)(zhi)過(guo)濾床→陰陽樹(shu)脂(zhi)(zhi)混床→微孔過(guo)濾器(qi)(qi)(qi)→用(yong)水(shui)點(dian)

　　2、采用兩級反滲透(tou)方式，其流程如下：

　　原水(shui)(shui)→原水(shui)(shui)加壓泵→多(duo)介質(zhi)過濾器(qi)→活性炭過濾器(qi)→軟水(shui)(shui)器(qi)→精(jing)密過濾器(qi)→第(di)一級(ji)反滲透 →PH調節→中間水(shui)(shui)箱→第(di)二級(ji)反滲透(反滲透膜表面帶正(zheng)電荷)→純化水(shui)(shui)箱→純水(shui)(shui)泵→微孔(kong)過濾器(qi)→用水(shui)(shui)點

　　3、采(cai)用(yong)EDI方式，其流程(cheng)如下(xia)：

　　原水→原水加壓泵→多介質過(guo)(guo)濾(lv)(lv)器→活性炭過(guo)(guo)濾(lv)(lv)器→軟(ruan)水器→精密(mi)過(guo)(guo)濾(lv)(lv)器→一級反滲透機→中(zhong)間水箱→中(zhong)間水泵→EDI系統→微(wei)孔過(guo)(guo)濾(lv)(lv)器→用水點

　　工業高(gao)純水設備(bei)水質標準

　　出(chu)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質完(wan)全符(fu)合(he)我國(guo)(guo)電子工業部(bu)電子級水(shui)(shui)質技(ji)術標(biao)準(zhun)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biao)準(zhun))、我國(guo)(guo)電子工業部(bu)高純(chun)水(shui)(shui)水(shui)(shui)質試行標(biao)準(zhun)、美國(guo)(guo)半導體工業用純(chun)水(shui)(shui)指標(biao)、日本(ben)集(ji)成電路水(shui)(shui)質標(biao)準(zhun)、國(guo)(guo)內外大規模(mo)集(ji)成電路水(shui)(shui)質標(biao)準(zhun)。