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工業用edi電去離子水設備

  edi電去離子水設備技術參數

  電導(dao)率(lv)≦0.2μs/㎝,電阻率(lv)≥10 MΩ·CM;

  PH:8~9.5;Cl 含量小于 5mg/l;

  O2含(han)量(liang)小(xiao)于 0.02mg/l;SO42-小(xiao)于 5mg/l;

  油含量(liang)小(xiao)于 1mg/l;LDl(朗格(ge)利(li)爾(er)值)<0;

  原水箱 V=1000L(螺紋式(shi)),SUS304 ;壁厚:0.5mm;

  原水泵(beng)(配套(tao)),N=0.55KW,SUS304

  去離子水處理設備工藝

  原(yuan)水(shui)(shui)箱、原(yuan)水(shui)(shui)池(用(yong)戶自備(bei))→原(yuan)水(shui)(shui)泵→石英(ying)砂(sha)過濾器→活性炭過濾器→阻垢(gou)劑加藥(yao)系統(tong)→精密過濾器→高(gao)壓泵→反滲透主機→純(chun)水(shui)(shui)箱(用(yong)戶自備(bei))→用(yong)水(shui)(shui)點(dian)。

  去離子水(shui)設備整體功能:

  預處理系統:輸入原水(shui),去除(chu)水(shui)的(de)懸浮(fu)物和膠體、有機物、防(fang)止反滲透的(de)難溶鹽結垢。

  通過預處理要達到以下指標:

  FTU <1

  SDL15 <2

  TOC <2PPM

  CODMn <1.5mg/l

  FE <0.1

  游離Cl <0.1

  鹽處理(EDI):主要去除水(shui)(shui)中的(de)各(ge)種無機(ji)鹽離(li)子。出水(shui)(shui)符(fu)合(he)國家(jia)純(chun)凈水(shui)(shui)標準 GB-17324-98,超(chao)純(chun)水(shui)(shui)電(dian)阻(zu)率(lv) 10-18MΩ·CM;

  石英砂過濾:濾除原水(shui)中細小顆粒、懸浮物、膠體(ti)等雜(za)質;

  活性(xing)炭過濾:除(chu)去水(shui)中游離氯和有機物以保護反滲透設施;

  阻(zu)垢(gou)劑加藥:防(fang)止反滲透膜受難溶(rong)鹽結垢(gou)的污染;

  精密過濾:截(jie)留原水中的大于 5 微米的顆粒,以保證反滲透膜不被大顆料的懸浮物劃傷;

  高壓泵:為反滲透膜提供足夠(gou)的進水壓力,以保證反滲透正常(chang)產水量;

  反滲透(tou)裝置:主要去除水中的各種無機鹽離子(zi);


(責任編輯:李德馨)
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