清洗方法：

　　一槽(cao)(cao)和二槽(cao)(cao)藥(yao)水(shui)槽(cao)(cao)溫(wen)度(du)：40-65度(du)，漂(piao)洗(xi)槽(cao)(cao)和慢(man)拉也一樣，烤(kao)箱溫(wen)度(du)100-120度(du)左右，每槽(cao)(cao)清洗(xi)時(shi)(shi)間3-5分鐘(zhong)，振動大(da)小(xiao)每槽(cao)(cao)滿(man)頻率或(huo)80%頻率。超純(chun)水(shui)電(dian)阻(zu)14MΩ·cm以上(shang)，純(chun)水(shui)的純(chun)度(du)對(dui)清洗(xi)有很大(da)影響，水(shui)質(zhi)比較(jiao)差(cha)會有很多(duo)水(shui)印和白點(dian)的，溢(yi)流(liu)水(shui)要中等大(da)小(xiao)。藥(yao)水(shui)一般是從后儲液槽(cao)(cao)加入(ru)，等溫(wen)度(du)升上(shang)來后加入(ru)，并攪拌均勻溶解充分，藥(yao)水(shui)更(geng)換24小(xiao)時(shi)(shi)為宜(yi)，漂(piao)洗(xi)槽(cao)(cao)純(chun)水(shui)更(geng)換1個班(ban)次為宜(yi)。

　　我司采(cai)用先進的超純水設備工藝流(liu)程，采(cai)用預(yu)處理+雙級反滲透+EDI工藝，完(wan)全滿足超純水電阻率≥15MΩ·cm，保證產品質量。

　　產品特點：

　　1.自動化程度高(gao)，可實現(xian)無(wu)人值(zhi)守(shou)

　　2.水(shui)(shui)利用率高，實現比較(jiao)大(da)程(cheng)度節(jie)水(shui)(shui)節(jie)電

　　3.終端產水(shui)(shui)量，產水(shui)(shui)水(shui)(shui)質穩定。

　　執行標準

　　JBT 7621-1994 電力半導體(ti)器件(jian)工藝(yi)用高(gao)純水

　　GBT11446.1-2013電子級超純水中國(guo)國(guo)家(jia)標準

　　GB6682-2000中國國家實驗室用(yong)水(shui)GB6682-2000

　　ASTM D5127-2007美國電子和半導體水質標準(zhun)

　　GB/T 11446.3——1997 電(dian)子級水(shui)測試(shi)方法通則

　　GB/T 11446.4——l997 電子級水電阻率的測試方(fang)法

　　GB/T 11446.5——1997 電子級水中(zhong)痕(hen)量(liang)金屬的原子吸(xi)收分光(guang)光(guang)度(du)測試方法(fa)

　　GB/T 11446.6——1997 電(dian)子級水中(zhong)二氧化硅(gui)的分光光度測試方法

　　GB/T 11446.7——1997 電子(zi)(zi)(zi)級水中痕量氯離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)、硝酸(suan)根離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)、磷酸(suan)根離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)、硫(liu)酸(suan)根離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)的(de)離(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)色譜測試方法

　　GB/T 11446.8——1997 電(dian)子級(ji)水中總有機碳的測(ce)試方法

　　GB/T 11446.9——1997 電(dian)子級水中(zhong)微(wei)粒的儀(yi)器測試方法

　　GB/T 11446.10——1997 電子(zi)級水細菌總(zong)數的濾膜(mo)培養測試方法

　　注意事項

　　如果光學玻璃排除水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)質(zhi)(zhi)、清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)藥(yao)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)、振動(dong)比(bi)較(jiao)大、白片(pian)平磨下(xia)來擦架等(deng)都在水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)中進行、漂(piao)洗(xi)(xi)(xi)槽水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)已經更換后等(deng)原因，還有(you)(you)白點或(huo)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)印(yin)(yin)，基(ji)本就是烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)內(nei)清(qing)(qing)(qing)(qing)潔衛(wei)生造成的(de)(de)，基(ji)本是烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)內(nei)部比(bi)較(jiao)底部四面(mian)角落(luo)有(you)(you)臟(zang)污或(huo)過濾器壽命到了，用干(gan)凈(jing)(jing)(jing)的(de)(de)無塵(chen)布粘純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)或(huo)酒精擦拭(shi)干(gan)凈(jing)(jing)(jing)各個烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)角落(luo)里(li)(li)的(de)(de)臟(zang)污，并用水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)瓢舀(yao)一(yi)瓢純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)放置(zhi)烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)內(nei)，開(kai)啟(qi)烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)風(feng)機(ji)進行水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)吸附(fu)(fu)烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)內(nei)空氣(qi)流(liu)(liu)(liu)動(dong)的(de)(de)灰塵(chen)，換不(bu)同的(de)(de)位置(zhi)吸附(fu)(fu)灰塵(chen)，吸附(fu)(fu)時間5-10分鐘。溢(yi)流(liu)(liu)(liu)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)開(kai)大一(yi)點，注意(yi)慢(man)拉槽的(de)(de)慢(man)拉速(su)(su)度，調(diao)節好速(su)(su)度，下(xia)快上慢(man)的(de)(de)原則(ze)，慢(man)拉附(fu)(fu)近不(bu)能有(you)(you)太大的(de)(de)氣(qi)流(liu)(liu)(liu)流(liu)(liu)(liu)動(dong)，眾所周知，純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)是超純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)，只要清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)干(gan)凈(jing)(jing)(jing)了，漂(piao)洗(xi)(xi)(xi)干(gan)凈(jing)(jing)(jing)了，沒(mei)有(you)(you)用有(you)(you)泡(pao)的(de)(de)清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)劑，烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)衛(wei)生搞好了，就算慢(man)拉使玻璃表(biao)(biao)面(mian)掛滿水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)珠，放到烤(kao)(kao)(kao)爐(lu)里(li)(li)去烤(kao)(kao)(kao)干(gan)也(ye)不(bu)會有(you)(you)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)印(yin)(yin)的(de)(de)，因為純水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)里(li)(li)幾(ji)乎沒(mei)有(you)(you)雜質(zhi)(zhi)了，而(er)且基(ji)本有(you)(you)水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)印(yin)(yin)，水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)印(yin)(yin)的(de)(de)出現的(de)(de)地方都在清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)架齒(chi)條的(de)(de)底部或(huo)上端齒(chi)條的(de)(de)兩側;另外無泡(pao)清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)劑里(li)(li)含(han)消泡(pao)劑(硅油(you)類)很容易吸附(fu)(fu)玻璃表(biao)(biao)面(mian)，很難清(qing)(qing)(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)下(xia)來，也(ye)是造成水(shui)(shui)(shui)(shui)(shui)印(yin)(yin)的(de)(de)一(yi)種原因。