觸摸(mo)屏清(qing)洗超(chao)純水設備(bei)對(dui)水質(zhi)的要求(qiu):
新(xin)興的(de)(de)光電(dian)(dian)材料生產(chan)、加工、清(qing)洗;LCD液晶(jing)顯(xian)示屏、PDP等離子顯(xian)示屏、高(gao)(gao)品質(zhi)燈管(guan)顯(xian)像管(guan)、微(wei)電(dian)(dian)子工業、FPC/PCB線路(lu)(lu)板、電(dian)(dian)路(lu)(lu)板、大規模、超(chao)大規模集成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)(lu)需用(yong)大量的(de)(de)高(gao)(gao)純(chun)(chun)水、超(chao)純(chun)(chun)水清(qing)洗半成(cheng)(cheng)品、成(cheng)(cheng)品。集成(cheng)(cheng)電(dian)(dian)路(lu)(lu)的(de)(de)集成(cheng)(cheng)度越高(gao)(gao),對(dui)水質(zhi)的(de)(de)要求(qiu)也(ye)越高(gao)(gao),這也(ye)對(dui)超(chao)純(chun)(chun)水處(chu)理(li)工藝及產(chan)品的(de)(de)簡易性(xing)、自動化程度、生產(chan)的(de)(de)連續性(xing)、可持續性(xing)等提(ti)出了更(geng)加嚴格的(de)(de)要求(qiu)。設備采用(yong)EDI技(ji)術(shu)。
EDI(Electrodeionization)是一種將離子交換技術、離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。它巧妙的將電滲析和離子交換技術相結合,利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動,并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除,從而達到水純化的目的。在EDI除鹽過程中,離子在電場作用下通過離子交換膜被清除。同時,水分子在電場作用下產生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進行連續再生,以使離子交換樹脂保持良好狀態。EDI設施的除鹽率可以高達99%以上,如果在EDI之前使用反滲透設備對水進行初步除鹽,再經EDI除鹽就可以生產出電阻率高達成15M .cm以上的超純水。
EDI 膜(mo)堆是由夾在(zai)兩(liang)個(ge)電極之間一定(ding)對數(shu)的(de)(de)單(dan)元(yuan)組(zu)成(cheng)。在(zai)每個(ge)單(dan)元(yuan)內有兩(liang)類不同的(de)(de)室(shi):待除鹽的(de)(de)淡水室(shi)和收集所除去雜質離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)的(de)(de)濃水室(shi)。淡水室(shi)中用(yong)混(hun)勻的(de)(de)陽(yang)(yang)、陰離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)交(jiao)換樹脂填滿,這(zhe)些樹脂位于(yu)兩(liang)個(ge)膜(mo)之間:只(zhi)允(yun)許陽(yang)(yang)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)透(tou)過的(de)(de)陽(yang)(yang)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)交(jiao)換膜(mo)及只(zhi)允(yun)許陰離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)透(tou)過的(de)(de)陰離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)交(jiao)換膜(mo)。
樹脂床利用加在室兩端的(de)(de)直流電(dian)進(jin)行連續地(di)再生(sheng),電(dian)壓(ya)使進(jin)水中(zhong)的(de)(de)水分(fen)子分(fen)解(jie)成(cheng) H+及 OH-,水中(zhong)的(de)(de)這(zhe)(zhe)些離子受相應電(dian)極(ji)的(de)(de)吸引,穿過(guo)(guo)陽、陰離子交(jiao)換樹脂向(xiang)所對應膜(mo)的(de)(de)方向(xiang)遷(qian)(qian)移(yi),當這(zhe)(zhe)些離子透過(guo)(guo)交(jiao)換膜(mo)進(jin)入(ru)濃室后, H +和 OH-結合成(cheng)水。這(zhe)(zhe)種 H+和 OH-的(de)(de)產生(sheng)及遷(qian)(qian)移(yi)正(zheng)是樹脂得以(yi)實現連續再生(sheng)的(de)(de)機理。
當進水(shui)中的 Na+及 CI-等雜質離(li)(li)子吸咐到相(xiang)應(ying)(ying)(ying)的離(li)(li)子交換(huan)(huan)(huan)樹(shu)(shu)脂(zhi)上時,這(zhe)些(xie)雜質離(li)(li)子就會(hui)發生象(xiang)普通混(hun)床(chuang)內一(yi)樣的離(li)(li)子交換(huan)(huan)(huan)反(fan)應(ying)(ying)(ying),并(bing)相(xiang)應(ying)(ying)(ying)地(di)置換(huan)(huan)(huan)出(chu) H+及 OH-。一(yi)旦在離(li)(li)子交換(huan)(huan)(huan)樹(shu)(shu)脂(zhi)內的雜質離(li)(li)子也(ye)加入到H+及OH-向(xiang)交換(huan)(huan)(huan)膜(mo)方向(xiang)的遷(qian)(qian)移,這(zhe)些(xie)離(li)(li)子將(jiang)連(lian)續地(di)穿過(guo)(guo)樹(shu)(shu)脂(zhi)直至透過(guo)(guo)交換(huan)(huan)(huan)膜(mo)而進入濃(nong)水(shui)室(shi)。這(zhe)些(xie)雜質離(li)(li)子由于相(xiang)鄰(lin)隔室(shi)交換(huan)(huan)(huan)膜(mo)的阻(zu)擋作用而不能向(xiang)對應(ying)(ying)(ying)電極的方向(xiang)進一(yi)步地(di)遷(qian)(qian)移,因此(ci)雜質離(li)(li)子得(de)以集(ji)中到濃(nong)水(shui)室(shi)中,然后(hou)可將(jiang)這(zhe)種含有雜質離(li)(li)子的濃(nong)水(shui)排出(chu)膜(mo)堆。
幾(ji)十年(nian)來純水的(de)(de)(de)制備(bei)是以消耗大量的(de)(de)(de)酸(suan)堿為代(dai)價的(de)(de)(de),酸(suan)堿在生產、運輸、儲(chu)存和使用過程中,不可(ke)避免地會(hui)帶來對(dui)環境的(de)(de)(de)污染,對(dui)設備(bei)的(de)(de)(de)腐蝕,對(dui)人體可(ke)能的(de)(de)(de)傷害以及(ji)維修費用的(de)(de)(de)居高(gao)不下。
我公司生(sheng)產的二級反滲(shen)透(tou)+EDI超(chao)(chao)純水(shui)(shui)設備,有多(duo)(duo)年(nian)的實踐經(jing)驗,尤其在電控系統PLC方(fang)面在水(shui)(shui)處(chu)理行業(ye)(ye)技術(shu)都是比較成熟,我們也(ye)有做過很多(duo)(duo)各行業(ye)(ye)的水(shui)(shui)處(chu)理設備,這方(fang)面我們有豐富(fu)的經(jing)驗。我們公司做出來的設備質量比他們都有優(you)勢(shi),在國內具(ju)有一定的市場(chang)竟爭力。該產品由于具(ju)備性能好、價格低于國外同類(lei)產品價格、供貨及時(shi)、售(shou)后服務方(fang)便快捷(jie)等諸多(duo)(duo)優(you)勢(shi)。在LED、LCD、光(guang)電光(guang)學企業(ye)(ye)的脫鹽水(shui)(shui)和超(chao)(chao)純水(shui)(shui)裝置,得到了業(ye)(ye)界的廣(guang)泛贊(zan)譽,歡迎廣(guang)大客戶(hu)前(qian)來參觀考察。
一、觸摸屏清洗用超純水設備需求要了解幾點內容:
1、純水(shui)的產水(shui)量(liang)(按每小時計算)
2、純水要求的水質(例如多(duo)少(shao)兆歐(ou))
3、原(yuan)水(shui)進水(shui)水(shui)質是什么水(shui)(例如(ru)自(zi)來水(shui))
4、制作(zuo)純水(shui)的工藝(yi)(工藝(yi)不(bu)一(yi)樣價格也不(bu)一(yi)樣)
5、用(yong)于生產(chan)什么產(chan)品(pin)(例如電池片)
6、配置的品牌(pai)及(ji)控(kong)制方(fang)式(PLC自(zi)動(dong)控(kong)制,手動(dong)控(kong)制)型(xing)號和數量等。
二、清洗要求:
LCD液晶(jing)顯(xian)示屏(ping)、PDP等(deng)(deng)離子顯(xian)示屏(ping)、高(gao)品質(zhi)燈管(guan)顯(xian)像管(guan)、微電子工業、FPC/PCB線路(lu)板(ban)、電路(lu)板(ban)、大規(gui)模、超大規(gui)模集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)需用大量(liang)的高(gao)純(chun)水(shui)、超純(chun)水(shui)清洗半(ban)成(cheng)品、成(cheng)品。集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)的集(ji)(ji)成(cheng)度越高(gao),對水(shui)質(zhi)的要求(qiu)也(ye)越高(gao),這(zhe)也(ye)對超純(chun)水(shui)處理(li)工藝及產(chan)品的簡易(yi)性、自動(dong)化程度、生產(chan)的連續性、可持(chi)續性等(deng)(deng)提出了更加嚴(yan)格的要求(qiu)。
三、EDI工藝:
預處理→紫外(wai)線(xian)殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水(shui)箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮(dan)封純水(shui)箱→除TOC UV裝置→拋(pao)光混(hun)床(chuang)→超(chao)濾裝置→用水(shui)點